Search

Start Over Creator Luňáček, Jiří

2. Měření tloušťky tenké vrstvy SiO2 na křemíkovém substrátu s využitím spektrální interferometrie v bílém světle

Creator:
Chlebus, Radek, Hlubina, Petr, Ciprian, Dalibor, Luňáček, Jiří, and Lesňák, Michal
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Language:
Czech
Description:
The article deals with white-light spectral interferometry used for measuring the thickness of SiO2 thin films on a silicon substrate. A slightly dispersive Michelson interferometer with a cube beam splitter and a fibre optic spectrometer are used when one of the interferometer mirrors is replaced by the SiO2 thin film on the silicon wafer. Thickness of the SiO2 thin film is determined by comparison of recorded spectral interferogram with theoretical one provided that the optical constants for materials involved in the structure are known. This method was applied for the thickness determination of four SiO2 thin-film samples. and Článek se zabývá využitím spektrální interferometrie v bílém světle pro měření tloušťky tenkých vrstev SiO2 na křemíkovém substrátu. Využívá se mírně disperzního Michelsonova interferometru s polopropustným zrcadlem ve tvaru kostky a vláknově optického spektrometru pro záznam interferogramů, kdy jedno ze zrcadel interferometru je nahrazeno křemíkovou deskou s tenkou vrstvou SiO2. Tloušťku tenké vrstvy SiO2 určujeme porovnáním zaznamenaného spektrálního interferogramu s interferogramem teoretickým za předpokladu znalosti optických konstant tenké vrstvy a substrátu. Tuto metodu jsme využili pro určení tloušťky čtyř vzorků s SiO2 tenkou vrstvou.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public

3. Morfologie agregátů nanočástic křemíku připravených v desintegrátoru Water Jet Mill

Creator:
Dvorský, Richard, Luňáček, Jiří, Slíva, Aleš, Barabaszová, Karla, Seidlerová, Jana, and Matýsek, Dalibor
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Subject:
nanoparticle, water jet, cavitation, implosion, disintegration, milling, grinding, aggregate, nanočástice, vodní paprsek, kavitace, implose, disintegrace, mletí, and agregát
Language:
Czech
Description:
The paper deals with physical mechanisms of disintegration of solid particles in new device called WJM-“Water Jet Mill” and a global description of the said system includes internal milling cycles and particle size separators of a liquid suspension. A disintegration agent here is a high energy liquid jet influence with outlet velocity about 660 m∙s-1 and high level of cavitation in disintegration zones. Dominate disintegration mechanism affected by cavitation bubble implosions direct on a particle surface inside a liquid suspension brings about a particle refinement to the level under 100 nm followed with a small mechanical damage of ar impact target. in the paper, results of aggregates morphology of silicon nanoparticles prepared using disintegrator WJM have been presented via separated chapter of Atomic Force Microscopy AFM, Scanning Electronic Microscopy SEM, confocal optical microscopy, and laser diffraction. and Práce prezentuje fyzikální mechanismy desintegrace pevných částic v novém zařízení, pracovně nazývaném WJM (Water Jet Mill) a globální popis uvedeného systému včetně interních mlecích cyklů a rozměrových separátorů partikulární kapalinové suspenze. Desintegračním činitelem je zde působení vysokoenergetického kapalinového paprsku s výtokovou rychlostí cca 660 m∙s-1 a vysokou mírou kavitace v desintegračních zónách. Z dosahované míry zdrobnění až do oblasti pod 100 nm a z malého mechanického poškození impaktního terče vyplývá dominantní mechanismus dezintegrace implozí kavitačních bublin přímo na povrchu částic uvnitř kapalinové suspenze. V samostatných oddílech mikroskopie atomárních sil AFM, skenující elektronové mikroskopie SEM, konfokální optické mikroskopie a laserové difrakce jsou následně prezentovány výsledky analýzy morfologie agregátů nanočástic křemíku připravených v desintegrátoru WJM.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public

4. Úprava elipsometru Gaertner L119 a jeho použití pro studium tenkých vrstev

Creator:
Lesňák, Michal, Luňáček, Jiří, Talik, Adam, Hlubina, Petr, and Pištora, Jaromír
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Subject:
Ellipsometry, thin films, Elipsometrie, and tenké vrstvy
Language:
Czech
Description:
This article deals with modification and renovation of the ellipsometer Gaertner L119 and its using for thin-film structures study. The measurement process is fully automatized. The device works at constant wavelength in PCSA null regime and the data are obtained for various angles of incidence. The system was tested on a set of SiO2 thin-films prepared on Si single crystal wafers by thermal oxidation at 1200°C. The thicknesses obtained from experiment were compared with the results obtained by using of Yamaguchi type spectral ellipsometric system as well as with the data determined from white-light interferometry and spectral reflectometry. and Předložená práce se zabývá popisem úprav a modernizace elipsometru Gaertner L119 a jeho využitím pro studium tenkých vrstev s automatizovaným režimem měřicího procesu. Zařízení se využívá jako nulovací elipsometr v konfiguraci PCSA pro měření na jedné vlnové délce při různých úhlech dopadu. K testování přístroje byla provedena měření tloušťky vrstev SiO2 připravených termickou oxidací na monokrystalických křemíkových deskách při teplotě 1200 °C. Naměřené tloušťky byly porovnány jednak s výsledky měření na spektrálním elipsometru systému Yamaguchi a také s interferometrickými a reflektometrickými měřeními v bílém světle.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public

5. Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody

Creator:
Luňáčková, Milena, Luňáček, Jiří, Potůček, Zdeněk, and Hlubina, Petr
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Subject:
spectral reflectance, thin-film, envelope method, absorption, spektrální odrazivost, tenká vrstva, obálková metoda, and absorpce
Language:
Czech
Description:
This paper deals with an alternative method to determine the thickness of a thin film on a substrate. A linear relation between the thin-film thickness and the wavelength of the reflectance spectrum tangent to the envelope function for specific interference order is revealed in a wide wavelength range. This relation enables the calculation of the thickness provided that the wavelength-dependent optical parameters of the thin film and the substrate are known. The methods allow to calculate the thickness from the reflectance spectrum in a narrow range close to one extreme only as demonstrated both theoretically and experimentally for Sio2 thin-films on Si substrates. The results are discussed for two wavelength ranges and compared with those obtained by the algebraic fitting method. and Práce prezentuje metodu určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti s využitím nové varianty obálkové metody. Byl nalezen lineární vztah mezi vlnovou délkou tečny spektrální odrazivosti k obálkové funkci a odpovídající tloušťkou tenké vrstvy pro daný interferenční řád v širokém spektrálním oboru. Tento lineární vztah umožňuje výpočet tloušťky vrstvy na základě známých spektrálních optických parametrů vrstvy a podložky. Metoda umožňuje výpočet tloušťky ze znalosti pouze malé části spektra v okolí jednoho extrému, jak je demonstrováno teoreticky a experimentálně na systému SiO2 - Si. Výsledky jsou porovnány s hodnotami, získanými algebraickou fitovací metodou.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public

6. Vliv použitého modelu odrazivosti na určení velikosti tloušťky tenké vrstvy

Creator:
Luňáčková, Milena, Luňáček, Jiří, Ciprian, Dalibor, and Hlubina, Petr
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Subject:
Fresnel’s formulas, spectral reflectance, thin-film structure, dispersion, Fresnelovy vztahy, spektrální odrazivost, tenká vrstva, and disperze
Language:
Czech
Description:
This paper presents the effect of various reflectance models of the thin-film structure system on determination of the thin-film thickness. A special program was created in software package Matlab, which is able to calculate theoretical spectral reflectance in selected wavelength interval for the certain thin-film thickness. Afterwards, this reflectance, which simulates experimental reflectance during the following study, is processed by other program in Matlab. In this way the simulated reflectance is fitted to theoretical one with thin-film thickness as fitted parameter. Different combinations of optical parameters - dispersive and non-dispersive - for the thin-film structure system can be used as the input for the program files in the fitted reflection spectrum. Finally, the effect of reflectance models on the value of the thin-film thickness is discussed. and Práce prezentuje vliv použití různých modelů odrazivosti systému tenká vrstva - podložka na vypočtení tloušťky tenké vrstvy. V prostředí Matlabu je vytvořen program, který pomocí obecného modelu vypočte teoretický průběh spektrální odrazivosti v závislosti na vlnové délce pro zvolenou tloušťku tenké vrstvy. Takto vypočtená odrazivost, která v další fázi studia simuluje naměřenou odrazivost, je zpracována dalším programem v Matlabu, který simulované (naměřené) reflexní spektrum fituje spektrem teoretickým, kde fitovaným parametrem je tloušťka vrstvy. Ve vstupních souborech fitovaného teoretického reflexního spektra jsou použity různé kombinace disperzních a nedisperzních optických parametrů systému tenká vrstva - podložka a je sledován jejich vliv na hodnotu vypočtené tloušťky tenké vrstvy.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public

7. Využití okenní Fourierovy transformace a waveletové transformace k rekonstrukci fáze spektrálního interferenčního signálu

Creator:
Luňáček, Jiří, Luňáčková, Milena, Hlubina, Petr, and Ciprian, Dalibor
Format:
bez média and svazek
Type:
model:article and TEXT
Subject:
windowed Fourier transform, wavelet transform, retrieved phase, spectral interferometry, white light, okenní Fourierova transformace, waveletová transformace, rekonstrukce fáze, spektrální interferometrie, and bílé světlo
Language:
Czech
Description:
This paper presents a new method of the spectral interference signal processing based on the windowed Fourier transform (WFT) and wavelet transform (WT) applied in the wavelength domain. The numerical simulations were performed to demonstrate the precision of the phase retrieval from the spectral interference signal. The phase error distribution function as a function of the wavelength was illustrated. The results show that the higher precision of the phase retrieval was obtained by WFT method with suitable parameters: window width and threshold. and Práce prezentuje novou metodu zpracování spektrálního interferenčního signálu, která je založena na okenní Fourierově transformaci (WFT) a waveletové transformaci (WT) aplikované ve spektrální oblasti. Je navržena numerická simulace, která ukazuje přesnost rekonstrukce fáze spektrálního interferenčního signálu oběma metodami. Pro obě metody byly zpracovány závislosti průběhu chyby fáze na vlnové délce. Výsledky ukazují, že přesnější rekonstrukce bylo dosaženo pomocí metody WFT s vhodnými vstupními parametry: šířkou okna a prahováním.
Rights:
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ and policy:public