In this article we present theoretically and experimentally a new measurement method of an optical element group dispersion using a spectral tandem white light interferometry, when two interferometers are used in tandem. Here we employ Michelson and Mach-Zehnder interferometers with an optical element of known thickness placed in one of their arms. From the recorded spectral interference signals there is deduced the balanced wavelength, for which the total group optical path difference between the beams is vanishing. From the experimental data the group dispersion of the glass sample was determined in accordance with the measurement results obtained using the Michelson interferometer only. and V tomto článku je představena nová metoda měření skupinové disperze optického prvku s využitím spektrální interferometrie v bílém světle. Článek prezentuje teorii a experiment využívající tzv. spektrální tandemové interferometrie v bílém světle, kdy jsou za sebou řazeny dva interferometry. V tomto příspěvku využíváme Michelsonův a Machův-Zehnderův interferometr, do jehož jednoho ramene je vložen optický prvek známé tloušťky. Ze zaznamenaných spektrálních interferenčních signálů je následně odečtena vyrovnávací vlnová délka, pro kterou je úhrnný skupinový optický dráhový rozdíl mezi svazky nulový. Na základě tohoto měření byla určena skupinová disperze skleněného vzorku a byl potvrzen soulad s měřením, které využívá pouze Michelsonova interferometru.
The article deals with white-light spectral interferometry used for measuring the thickness of SiO2 thin films on a silicon substrate. A slightly dispersive Michelson interferometer with a cube beam splitter and a fibre optic spectrometer are used when one of the interferometer mirrors is replaced by the SiO2 thin film on the silicon wafer. Thickness of the SiO2 thin film is determined by comparison of recorded spectral interferogram with theoretical one provided that the optical constants for materials involved in the structure are known. This method was applied for the thickness determination of four SiO2 thin-film samples. and Článek se zabývá využitím spektrální interferometrie v bílém světle pro měření tloušťky tenkých vrstev SiO2 na křemíkovém substrátu. Využívá se mírně disperzního Michelsonova interferometru s polopropustným zrcadlem ve tvaru kostky a vláknově optického spektrometru pro záznam interferogramů, kdy jedno ze zrcadel interferometru je nahrazeno křemíkovou deskou s tenkou vrstvou SiO2. Tloušťku tenké vrstvy SiO2 určujeme porovnáním zaznamenaného spektrálního interferogramu s interferogramem teoretickým za předpokladu znalosti optických konstant tenké vrstvy a substrátu. Tuto metodu jsme využili pro určení tloušťky čtyř vzorků s SiO2 tenkou vrstvou.