The aim of this article is mapping and assessing of the mid spatial frequencies occurrence in the CNC optical surfaces machining process, when due to precisely-defined tools path some typical surface structures with significant impact on optical properties are formed or suppressed. and Článek se věnuje mapování a hodnocení výskytu ''mid spatial frequencies'' v procesu CNC opracování optických ploch, kdy vzhledem k přesně definovaným drahám nástrojů dochází ke vzniku nebo naopak k potlačování určitých pro použité procesy charakteristických struktur, jež mají výrazný vliv na optické vlastnosti takto vyráběných optických prvků.
Plan-parallel optical elements are broadly used as a final component and also as semi-finished product. But the interferometric measurement of its optical properties is very difficult due to interference between the front and rear plan surfaces which cause undesirable fringes often called ''dead fringes''. Because of this fact, multi-step measurement with low coherence source have to be done or immersion fluid for suppressing of unwanted reflections have to be use. This kind of measurement is very laborious and place high demands on the operator. By multiple-wavelength interferometry using tunable laser source, the separation of information about the shape of surfaces or transmission from each other is possible. And also is a possible, evaluation of dead fringes and calculation inner refractive index distribution. All these can be done in only one step measurement with a high coherence laser source and without any immersion fluid. Therefore the measurement is less sensitive to human errors and last but not least very fast. and Planparalelní optické elementy jsou široce užívány a planparalelní disky optického skla jsou také často základem pro následnou výrobu. Interferometrické měření jejich optických vlastností je však velmi obtížné, a to právě díky paralelitě rovinných povrchů, mezi nimiž dochází v kolimovaném koherentním svazku k nežádoucí interferenci znemožňující standardní měření dalších vlastností elementu. Měření je tak nutné provádět vícekrokově pomocí zdrojů s nízkou koherencí, či eliminovat nežádoucí interferenci pomocí imerzní kapaliny. Tyto metody jsou však velmi pracné a kladou vysoké požadavky na operátora. Pomocí multivlnné interferometrie, kdy je lineárně laděna frekvence laserového zdroje, je možné oddělit požadovanou informaci od interference nežádoucí, a tím získat tvarové a transmisní vlastnosti elementu a případně také vnitřní rozložení indexu lomu během jediného měření a bez použití imerzní kapaliny. Výsledné měření je tak v podstatě necitlivé na lidské chyby a především je výrazně rychlejší.
We investigated net photosynthetic rate and antioxidative enzyme activities in Erythrina orientalis grown in three different sites: Makati and Quezon (cities with high levels of air pollution, HP) and La Mesa (a non-polluted area, NP). Photosynthetic activity of E. orientalis was significantly reduced in the HP cities. In contrast, activities of the antioxidative enzymes ascorbate peroxidase and glutathione reductase were significantly higher in HP cities than in the NP area. and S. Y. Woo, D. K. Lee, Y. K. Lee.
This paper presents the effect of various reflectance models of the thin-film structure system on determination of the thin-film thickness. A special program was created in software package Matlab, which is able to calculate theoretical spectral reflectance in selected wavelength interval for the certain thin-film thickness. Afterwards, this reflectance, which simulates experimental reflectance during the following study, is processed by other program in Matlab. In this way the simulated reflectance is fitted to theoretical one with thin-film thickness as fitted parameter. Different combinations of optical parameters - dispersive and non-dispersive - for the thin-film structure system can be used as the input for the program files in the fitted reflection spectrum. Finally, the effect of reflectance models on the value of the thin-film thickness is discussed. and Práce prezentuje vliv použití různých modelů odrazivosti systému tenká vrstva - podložka na vypočtení tloušťky tenké vrstvy. V prostředí Matlabu je vytvořen program, který pomocí obecného modelu vypočte teoretický průběh spektrální odrazivosti v závislosti na vlnové délce pro zvolenou tloušťku tenké vrstvy. Takto vypočtená odrazivost, která v další fázi studia simuluje naměřenou odrazivost, je zpracována dalším programem v Matlabu, který simulované (naměřené) reflexní spektrum fituje spektrem teoretickým, kde fitovaným parametrem je tloušťka vrstvy. Ve vstupních souborech fitovaného teoretického reflexního spektra jsou použity různé kombinace disperzních a nedisperzních optických parametrů systému tenká vrstva - podložka a je sledován jejich vliv na hodnotu vypočtené tloušťky tenké vrstvy.