V tomto příspěvku jsou prezentovány výsledky studia povrchu tenkých vrstev SnO2 připravovaných plazmatickou oxidací tenkých vrsev cínu. Analýza topografie povrchu vrstev byla prováděna pomocí AFM mikroskopu. Tenké vrstvy SnO2 jsou velmi často využívány jako materiál pro přípravu senzorů plynů. Výsledné vlastnosti senzorů jsou pak závislé na některých parametrech vrstev SnO2, které závisejí na způsobu přípravy vrstev. Námi použitá metoda plazmatické oxidace tak rozšiřuje řadu doposud používaných technologií připravy tenkých vrstev SnO2., Zdeněk Strýhal, Jaroslav Pavlík, Stanislav Novák., and Obsahuje seznam literatury
This article deals with modification and renovation of the ellipsometer Gaertner L119 and its using for thin-film structures study. The measurement process is fully automatized. The device works at constant wavelength in PCSA null regime and the data are obtained for various angles of incidence. The system was tested on a set of SiO2 thin-films prepared on Si single crystal wafers by thermal oxidation at 1200°C. The thicknesses obtained from experiment were compared with the results obtained by using of Yamaguchi type spectral ellipsometric system as well as with the data determined from white-light interferometry and spectral reflectometry. and Předložená práce se zabývá popisem úprav a modernizace elipsometru Gaertner L119 a jeho využitím pro studium tenkých vrstev s automatizovaným režimem měřicího procesu. Zařízení se využívá jako nulovací elipsometr v konfiguraci PCSA pro měření na jedné vlnové délce při různých úhlech dopadu. K testování přístroje byla provedena měření tloušťky vrstev SiO2 připravených termickou oxidací na monokrystalických křemíkových deskách při teplotě 1200 °C. Naměřené tloušťky byly porovnány jednak s výsledky měření na spektrálním elipsometru systému Yamaguchi a také s interferometrickými a reflektometrickými měřeními v bílém světle.
Using aluminum films combined with protective dielectric film is amethod of choice for many reflective applications in the visible (VIS) and the near infrared (NIR) range. An optical defect occurred during the introduction of the deposition aluminum (Al) films protected by a silicon dioxide (SiO2 ) protective film in our laboratory. Both films were deposited using an electron beam evaporator. S iO2 layers were deposited using the ion beam assisted deposition (IBAD). The results were not satisfactory. Produced films were matting and struggled with a significant reflectance decrease. The article presents an experimental approach which has been performed in order to eliminate the matting effect and the reflectance decrease. and Hliníková vrstva v kombinaci s ochrannou dielektrickou vrstvou je jedna z nejčastěji používaných možností pro výrobu reflexních prvků v oblasti viditelného a blízkého infračerveného světla. Při depozici těchto vrstev v naší laboratoři byl pozorován problém s degradací kvality ve formě viditelného zašednutí a výrazné ztráty reflektance. Hliníková i dielektrické vrstvy jsou nanášeny vakuovým odpařováním z elektronového děla. V případě dielektrické vrstvy je pak použita varianta zvaná IBAD (Ion Beam Assisted Deposition). Článek představuje výsledky experimentů, kterými byl nalezen optimální procesní postup eliminující degradaci optické kvality deponovaných vrstev.
The work deals with the possibility of extending the analysis of classical scratch test based on simultaneous detection of acoustic emissions during scratch. Scratch test is frequently used for testing the adhesive-cohesive properties of coating-substrate. However, the very first onset of the coating cannot be often detected by visual inspection after the test or from the depth change record. Here is the potential for the detection of acoustic emissions that accompany the formation or propagation of cracks in the coating, thereby exposing otherwise undetectable events in the sample. For recording and subsequent analysis we have developed a novel system for detection of acoustic emissions, which can easily be used alongside existing techniques of the scratch test. Due to the sensitive piezoelectric sensor and the transducer sampling frequency of 2 MHz failure events can be monitored with microsecond resolution. Advanced analysis software then allows performing the spectral analysis of acoustic emissions events. Possibilities of the system are demonstrated on three coated samples of different hardness. Comparison of acoustic emission records with electron micrographs of residual scratches and depth change records shows a great sensitivity of our detection system. Frequency spectra of individual acoustic emission events are unique for specific samples and allow the introduction of advanced methods for their detection and analysis. and Článek se zabývá možnostmi rozšířené analýzy klasické vrypové zkoušky založené na detekci akustických emisí během vrypu. Vrypová zkouška se nejčastěji využívá pro testování adhezně-kohezních vlastností systému vrstva-substrát. Mnohdy jsou však první vznikající porušení systému taková, že je nelze odhalit vizuální kontrolou po testu ani ze změny hloubky taženého hrotu v průběhu testu. Zde je právě místo pro detekci akustických emisí, které doprovází vznik či šíření prasklin v měřeném vzorku, čímž odhalí jinak nedetekovatelné události ve vzorku. Pro snímání a následnou analýzu jsme vyvinuli vlastní systém detekce akustických emisí, který lze jednoduše použít vedle stávající techniky vrypové zkoušky. Díky citlivému piezoelektrickému senzoru a vzorkovací frekvenci převodníku 2 MHz lze sledovat porušení vrstev s mikrosekundovým rozlišením. Pokročilý analyzační software pak umožňuje provádět spektrální analýzu akustických emisí vyvolaných při mechanickém porušení vzorku. Možnosti detekčního systému jsou demonstrovány na třech vzorcích vrstev odlišného stupně tvrdosti. Porovnání záznamů akustických emisí s mikrofotografiemi reziduálních vrypů a záznamy hloubky vrypů prokazuje velkou citlivost naší detekční soustavy. Frekvenční spektra jednotlivých událostí akustických emisí jsou pro dané vzorky specifické a umožňují zavedení pokročilých metod detekce a analýzy událostí.