Sub-aperture stitching interferometry enables to divide measured optical surface into several sub-apertures that can be measured separately in contrast with classic full-aperture interferometry. Using this method, it is possible to measure optical surfaces with high numerical aperture or aspherical surfaces with conventional interferometers. In the measurement process sub-apertures are sequentially reached by focusing output beam from interferometer to defined positions on the measured surface. Different kinematic structures with highly accurate measurement systems, that enable proper positioning of measured surface, are used for this purpose. In this paper, optimal mathematical representation of suitable positioning system for sub-aperture stitching interferometry, in the way of highly accurate result with minimum computational demands, is described. Paper especially focuses on forward and inverse kinematic of the system together with proper design of sub-aperture lattice structure, that defines position of each sub-aperture. and Sub-aperturní sešívací interferometrie, na rozdíl od klasické celo-aperturní, umožňuje rozložit měřenou optickou plochu na více separátně měřitelných sub-apertur. Díky tomu lze významným způsobem rozšířit využitelnost konvenčních interferometrů pro měření optických ploch o velké numerické apertuře či významné asféricitě. Sub-apertur je v průběhu měření postupně dosahováno fokusací laserového svazku vystupujícího z interferometru do přesně definovaných míst optické plochy. K tomuto účelu jsou využívány různé kinematické struktury s velmi přesnými odměřovacími systémy. Předmětem tohoto příspěvku je optimální matematická reprezentace polohovacího systému, využitelného pro sub-aperturní sešívací interferometrii, s ohledem na nízké výpočetní nároky. Článek se zabývá především přímou a inverzní úlohou kinematiky společně s návrhem sub-aperturní mřížky, definující polohy jednotlivých sub-apertur měřené optické plochy.
Přesné stanovení mřížkových parametrů polykrystalických látek a monokrystalů je jednou ze základních úloh rtg. difrakce. Měření mřížkových parametrů polykrystalů je založeno na extrapolační metodě a na podílové metodě M. Černohorského, mřížkové parametry dokonalých monokrystalů lze měřit Bondovou metodou relativně k přepokládané vlnové délce rtg. záření, nebo kombinací rtg. a optické interferometrie. Článek shrnuje principy metod měření mřížkového parametru a zabývá se jejich aplikací pro přesné stanovení Avogadrovy konstanty., Václav Holý., and Obsahuje seznam literatury
Subaperture stitching interferometry was originally developed to allow for the full-aperture measurement of large-aperture spheres and flats using commercially available 4'' or 6'' interferometers and transmission elements.1-3 The method was then extended to the measurement of mild aspheric surfaces, by exploiting the local best-fitting and magnification of the high density fringe patterns associated with non-null interferometry.4 In both cases, advanced stitching algorithms have been developed to automatically compensate for systematic interferometer errors such as reference wavefront and distortion errors.5 Stitching interferometry also provides for higher lateral spatial resolution than conventional interferometry. Subaperture stitching interferometry has now been extended to the measurement of high-departure aspheres through the use of a variable optical null (VONTM) device. The VON can have a variety of realizations that serve to generate an optical wavefront that closely matches the surface of the asphere within a local subaperture. The residual wavefront error is measured with a standard interferometer, and the full-aperture surface profile of the asphere is reconstructed using advanced stitching algorithms. This method allows for the accurate measurement of aspheres with up to 1000 waves of departure from best-fit sphere, without the use of dedicated null lenses. This paper presents the basic principles of subaperture stitching interferometry incorporating a specific VON. and Metoda SSI (Subaperture Stitching Interferometry) byla původně vyvinuta pro měření celých apertur rozměrných koulí a rovin s využitím komerčních čtyř nebo šestipalcových interferometrů a transmisních prvků. Metoda pak byla rozšířena pro měření mírně asférických povrchů pomocí nejlepšího lokálního proložení, nazvětšováním velmi hustých interferenčních proužků a propojením s nenulovou interferometrií. V obou případech byl vyvinut vylepšený sešívací algoritmus automaticky kompenzující systematické chyby interferometru, jako jsou referenční vlnoplocha a distorzní chyby. Tento sešívací druh interferometrie rovněž poskytuje větší příčné prostorové rozlišení než konvenční interferometrie. Metoda byla dále rozšířena na výrazně asférické povrchy s využitím stavitelného optického zařízení VON™ (variable optical null). VON má různé realizace, které slouží ke generování vlnoplochy přesně lokálně kopírující povrch asféry. Zbytková odchylka od vlnoplochy je měřena standardním interferometrem a celý profil asféry je rekonstruován pomocí vylepšeného sešívacího algoritmu. Metoda umožňuje přesné změření asféry s odchylkou až 1000 vlnových délek od koule nejlepšího proložení, bez nutnosti použití jednoúčelových nulových čoček. V příspěvku se uvádějí základní principy této interferometrické metody využívající určité zařízení VON.