This paper is dedicated to the interaction of light with metallic nanostructures. We give basic physical principles of light scattering on metallic particles; the technological steps when using electron lithography for fabrication of these nanostructures are shown; furthermore, methods how to measure the spectral response of samples with nanostructures are described. Advanced and sophisticated methods are generally required in nanotechnology. Therefore, we suggest applications of patterns consisting of metallic nanostructures exhibiting low level of falsification in the field of security-pattern industry. and Článek se zabývá měřeními interakce světla s kovovými nanostrukturami. Je stručně vysvětlen fyzikální princip, jakým se světlo na kovových částicích rozptyluje. Jsou naznačeny jednotlivé kroky při výrobě nanostruktur pomocí elektronové litografie a rovněž je popsáno, jak byly získány spektrální odezvy vzorků s nanostrukturami. Nanotechnologie obecně vyžadují používání pokročilých metod výroby a analýzy. Z toho důvodu navrhujeme aplikace vzorů vytvořených z kovových nanostruktur v oblasti výroby ochranných průmyslových prvků, neboť takové vzory se vyznačují nízkou úrovní padělatelnosti.
We report on a new method of incoherent holographic microscopy which is based on modern optical components using the geometric (Pancharatnam-Berry) phase. The proposed method combines advantages of achromatic off-axis holography and robust common-path interferometry and provides quantitative restoration of the phase retardance introduced between any orthogonal polarization states. This makes the method predestined for the study of the amplitude and phase response of plasmonic metasurfaces. The high accuracy of the phase restoration was verified on a benchmark metasurface and further tested using metasurface grating with frequency 833 lines/mm and vortex metasurfaces. Thanks to the superior light sensitivity of the method, we successfully demonstrated widefield measurement of the phase altered by individual building blocks of the metasurface while maintaining the measurement precision well below 0.15 rad. and Článek popisuje novou metodu nekoherentní holografické mikroskopie založenou na využití moderních optických prvků pracujících na principu geometrické (Pancharatnamovy-Berryho) fáze. Metoda kombinuje výhody achromatické mimoosové holografie a robustní jednocestné interferometrie a umožňuje kvantitativně rekonstruovat fázovou retardaci vnesenou mezi ortogonální polarizační stavy. Těchto vlastností lze s výhodou využít ke studiu amplitudové a fázové odezvy plazmonických metapovrchů. Vysoká přesnost měření fáze plazmonických metapovrchů byla ověřena pomocí kalibračního metapovrchu a dále testovaná při zobrazení metapovrchové mřížky s frekvencí 833 čar/mm a vírových metapovrchů. Díky vysoké citlivosti použité metody jsme prokázali možnost kvantitativního měření fázové odezvy metapovrchů až na úrovni jejich jednotlivých stavebních bloků, a to při zachování přesnosti měření pod 0,15 radiánu.
Fabrication of plasmonic nanoantennas with resonance frequencies in visible range is often challenging due to the necessity of exposure of nonconductive substrates. This work is focused in comparison of conventional fabrication approach using conductive polymer layers and alternative variable pressure electron beam lithography (VP-EBL) method. We have also studied the stability of VP-EBL process for long exposures. and Výroba plazmonických nanoantén s rezonančními frekvencemi ve viditelné oblasti pomocí elektronové litografie mnohdy přináší nutnost expozice nevodivých substrátů. Tato práce je zaměřena na porovnání výsledků dosažitelných konvenčním přístupem za použití vodivých polymerů a alternativního postupu v podobě litografie za variabilního tlaku (VP-EBL). Dále je testována stabilita VP-EBL procesu pro dlouhodobé expozice.