The paper deals with the development and description of a multichromatic monitoring system used as part of vacuum deposition chambers for the in-situ measurement of thin film thicknesses. The monitoring system is based on the measurement of the reflectance/ transmittance of the sample at several points of the spectrum, determined by the number and wavelength of the lasers used. Measurement takes place at all wavelengths at the same time, allowing for its high speed. The main benefit of our monitoring system is a significant reduction of measurement uncertainty, compared to conventional monochromatic measurement. In addition, it gives a rough idea of the spectral characteristic of the sample. The article deals mainly with technical implementation. The algorithm for accurately determining the thickness of the thin layer is not explained here. and Článek pojednává o vývoji a popisu multifrekvenčního měřiče, použitého jako součást vakuových depozičních komor pro průběžné měření tlouštěk tenkých vrstev. Měřič je založený na měření odraznosti/ propustnosti vzorku v několika bodech spektra, určených počtem a vlnovou délkou použitých laserů. Měření probíhá na všech vlnových délkách současně, čímž je možné dosáhnout vysoké rychlosti. Hlavním přínosem našeho měřiče je výrazná redukce nejistoty ve srovnání s klasickým monofrekvenčním měřením. Navíc dává i hrubou představu o spektrální charakteristice vzorku. Článek se zabývá především technickou realizací. Algoritmus pro přesné stanovení tloušťky tenké vrstvy zde vysvětlen není.