Research and development of interferometric systems for coordinate and multiaxis measuring are the goal of a common collaborative project involving the Institute of Scientific Instruments, Czech Academy of Sciences and Meopta - optika, s.r.o. The common effort is oriented to applications with the highest demands for precision in the dimensional metrology and nanometrology. The concept of the system represents a modular family of components configurable for various arrangements especially for coordinate measurements in nanotechnology and measurement of topography of surfaces. Meopta - optika, s.r.o. contributes to the project through development of new technology of production of optical components. We present here compact interferometric units designed for measurement by reflection from flat mirror. and Výzkum a vývoj interferometrických odměřovacích systémů pro souřadnicové a víceosé odměřování je náplní společného projektu, v němž spolupracují Ústav přístrojové techniky, Akademie věd České republiky, v.v.i. a podnik Meopta - optika, s.r.o. Společné snažení směřuje k aplikacím s nejvyššími nároky na přesnost v dimenzionální metrologii a nanometrologii. Zvolená koncepce systému představuje modulární rodinu komponent konfigurovatelnou pro různá uspořádání, zvláště pro víceosá měření v nanotechnologiích a měřeních topografie povrchů. Meopta - optika, s.r.o. přispívá především vývojem nové technologie výroby optických prvků rovinné optiky. Zde prezentujeme kompaktní interferometrické jednotky navržené pro interferometrické měření odrazem od rovinného zrcadla.
Subaperture stitching interferometry was originally developed to allow for the full-aperture measurement of large-aperture spheres and flats using commercially available 4'' or 6'' interferometers and transmission elements.1-3 The method was then extended to the measurement of mild aspheric surfaces, by exploiting the local best-fitting and magnification of the high density fringe patterns associated with non-null interferometry.4 In both cases, advanced stitching algorithms have been developed to automatically compensate for systematic interferometer errors such as reference wavefront and distortion errors.5 Stitching interferometry also provides for higher lateral spatial resolution than conventional interferometry. Subaperture stitching interferometry has now been extended to the measurement of high-departure aspheres through the use of a variable optical null (VONTM) device. The VON can have a variety of realizations that serve to generate an optical wavefront that closely matches the surface of the asphere within a local subaperture. The residual wavefront error is measured with a standard interferometer, and the full-aperture surface profile of the asphere is reconstructed using advanced stitching algorithms. This method allows for the accurate measurement of aspheres with up to 1000 waves of departure from best-fit sphere, without the use of dedicated null lenses. This paper presents the basic principles of subaperture stitching interferometry incorporating a specific VON. and Metoda SSI (Subaperture Stitching Interferometry) byla původně vyvinuta pro měření celých apertur rozměrných koulí a rovin s využitím komerčních čtyř nebo šestipalcových interferometrů a transmisních prvků. Metoda pak byla rozšířena pro měření mírně asférických povrchů pomocí nejlepšího lokálního proložení, nazvětšováním velmi hustých interferenčních proužků a propojením s nenulovou interferometrií. V obou případech byl vyvinut vylepšený sešívací algoritmus automaticky kompenzující systematické chyby interferometru, jako jsou referenční vlnoplocha a distorzní chyby. Tento sešívací druh interferometrie rovněž poskytuje větší příčné prostorové rozlišení než konvenční interferometrie. Metoda byla dále rozšířena na výrazně asférické povrchy s využitím stavitelného optického zařízení VON™ (variable optical null). VON má různé realizace, které slouží ke generování vlnoplochy přesně lokálně kopírující povrch asféry. Zbytková odchylka od vlnoplochy je měřena standardním interferometrem a celý profil asféry je rekonstruován pomocí vylepšeného sešívacího algoritmu. Metoda umožňuje přesné změření asféry s odchylkou až 1000 vlnových délek od koule nejlepšího proložení, bez nutnosti použití jednoúčelových nulových čoček. V příspěvku se uvádějí základní principy této interferometrické metody využívající určité zařízení VON.
Very Large Telescope (VLT) je zcela výjimečným dalekohledem postaveným organizací ESO na jižní polokouli v Atacamské poušti v chilských Andách ve výšce 2635 metrů. Jde o čtyři dalekohledy o průměru 8,2 metru, které v kombinovaném režimu odpovídají jednomu přístroji o průměru zrcadla 16 metrů. Do budoucna se plánuje ještě interferometrické propojení (VLTI - Very Large Telescope Interferometer) se základnou 200 metrů. Naše expedice PARACHI 2003 měla možnost VLT navštívit a vidět na vlastní oči současný stav tohoto astronomicky mimořádně cenného přístroje. and Petr Kulhánek, Jakub Rozehnal.
The problem of self-weight deflection of the optical lens and its influence on surface shape measurement accuracy is discussed in the article. The equations describing deflection calculation of the optical lens having at least one of the surfaces spherical or aspherical are derived and the influence of the lens support position during its measurement is shown. and V článku je řešena problematika vlivu vlastního průhybu čočky, tj. průhybu způsobeného její vahou, na přesnost měření tvaru jejích ploch. Jsou odvozeny vztahy pro výpočet průhybu čočky mající alespoň jednu plochu sférickou nebo asférickou. Je ukázán vliv uložení (podepření) čočky při jejím měření.