This paper presents the third version of ultrahigh vacuum, very slow electrons microscope, developed and manufactured at ISI CAS in Brno. This microscope is a unique tool for material analysis on the clean surfaces. Exceptional requirements for UHV component quality demonstrate the possibilities of precision manufacturing in the workshops and a collaboration of scientific departments at the institute. For instance, we can mention the electron beam welding of vacuum parts. and Článek představuje již třetí verzi ultravysokovakuového mikroskopu s velmi pomalými elektrony vyvinutého a vyrobeného v ÚPT AVČR v Brně. Tento mikroskop je světově unikátním zařízením umožňujícím experimenty na speciálně připravených površích pevných látek. Mimořádné požadavky kladené na technické zpracování dílů pro UHV demonstrují možnosti precizní výroby v dílnách ústavu i spolupráci vědeckých oddělení například při svařování dílů elektronovým svazkem.
This article deals with the calculations of collection efficiency of the Everhart-Thornley detector in the different scanning electron microscopes. The effect of magnetic and electrostatic fields distribution in the chamber of microscope on the trajectories of the secondary electrons on the final image contrast is demonstrated for three detection systems. and Článek se zabývá výpočty sběrové účinnosti Everhartova-Thornleyho detektoru v různých rastrovacích elektronových mikroskopech. Na třech detekčních systémech je ukázán vliv rozložení magnetického a elektrostatického pole v komoře mikroskopu na trajektorie sekundárních elektronů, které ovlivňují výsledný obrazový kontrast.