Fabrication of plasmonic nanoantennas with resonance frequencies in visible range is often challenging due to the necessity of exposure of nonconductive substrates. This work is focused in comparison of conventional fabrication approach using conductive polymer layers and alternative variable pressure electron beam lithography (VP-EBL) method. We have also studied the stability of VP-EBL process for long exposures. and Výroba plazmonických nanoantén s rezonančními frekvencemi ve viditelné oblasti pomocí elektronové litografie mnohdy přináší nutnost expozice nevodivých substrátů. Tato práce je zaměřena na porovnání výsledků dosažitelných konvenčním přístupem za použití vodivých polymerů a alternativního postupu v podobě litografie za variabilního tlaku (VP-EBL). Dále je testována stabilita VP-EBL procesu pro dlouhodobé expozice.