A combination of titanium dioxide (TiO2 ) and silicon dioxide (SiO2 ) has been used for decades in the field of optical interference filters. Their combination is a frequently used deposition method for most application in the visible (VIS) and near infrared (NIR) spectral range. They are applied for simple coatings such as antireflective coatings as well as for demanding coatings consisting of dozens of layers. In spite of its common usage we found undescribed optical losses in our coatings. The losses appeared at the time when we introduced the combination in our laboratory process using the ion beam assisted deposition (IBAD) with e-gun. We did not find any piece of published information which covers using combination of TiO2 and SiO2 . In this article we focus on modifying process parameters so that the losses are reduced. and Kombinace oxidu titaničitého (TiO2 ) a oxidu křemičitého (SiO2 ) se pro interferenční filtry používá již desítky let. Ve většině aplikací pro oblast viditelného a blízkého infračerveného spektra je tato kombinace nejlepší volbou, a to jak pro jednoduché filtry, tak i pro složité soustavy desítek vrstev. Přesto se při depozici těchto materiálů vakuovým odpařováním z elektronového děla s iontovou asistencí v naší laboratoři objevil ve vrstvách problém nepředpokládaných ztrát světla. Podobný jev nebyl, dle naší rešerše, popsán v žádné dostupné literatuře. Článek popisuje experimenty směřující k nalezení původu těchto ztrát a jejich potlačení.