Závislost struktury povlaků Ti1-xAl x N na depozičních parametrech PVD procesu

Title:

Závislost struktury povlaků Ti1-xAl x N na depozičních parametrech PVD procesu
Influence of PVD process parameters on TiAlN coating structu

Creator:

Jílek, Mojmír and Vogl, Petr

Identifier:

https://cdk.lib.cas.cz/client/handle/uuid:c32e7ccf-e90a-461d-b8ee-31ef56a8dd8f
uuid:c32e7ccf-e90a-461d-b8ee-31ef56a8dd8f

Subject:

precision mechanics, přesná mechanika, oblouková depozice, PVD, rotační katoda, TiAlN, stechiometrie, and Pi111

Type:

model:article and TEXT

Format:

bez média and svazek

Description:

It is advantageous to have a tool for a coating stoichiometry calculation to control coating deposition made from two different cathodes. Stoichiometry depends not only on arc currents ratio, but also on intensity and shape of magnetic field. This relation has been experimentally verified and is presented for TiAlN coating prepared by a new coating device Pi111. With the aid of this tool, it is possible to estimate coating parameters and to reach the desired Al/Ti ratio in a coating. With increasing content of Al in a coating, cubic structure shifts to hexagonal structure. This change proves itself not only by hardness decrease, but also by a change of coating growth rate. For detailed description of this effect, method of calculation of coating stoichiometry described above was used., Článek je zaměřen na problematiku určování stechiometrie vrstev nanášených metodou PVD. Patentovaný systém rotačních katod umožňuje ze znalosti procesních parametrů určit složení výsledné vrstvy. To je ovlivněno nejen poměrem proudů do oblouků, ale také intenzitou a tvarem magnetických polí katod. Tato závislost byla experimentálně prokázána pro vrstvu Ti1-xAlx N připravenou na novém povlakovacím zařízení Pi111. Této závislosti bylo dále využito pro vývoj metody umožňující optimalizovat procesní parametry tak, abychom získali vrstvu Ti1-xAlx N s požadovanou stechiometrií. Se zvyšujícím se obsahem hliníku v povlaku Ti1-xAlx N dochází ke změně kubické struktury na hexagonální. Tato změna je doprovázena nejen snížením mikrotvrdosti vrstvy, ale také změnou rychlosti růstu vrstvy. Pro odhalení tohoto efektu byla s úspěchem využita metoda výpočtu stechiometrie vrstvy zmíněná výše., and Autor: M. Jílek ml.

Language:

Czech

Rights:

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
policy:public

Coverage:

212-214

Source:

Jemná mechanika a optika: věda - výzkum - technologie - realizace : technický oborový časopis = Fine mechanics and optics | 2010 Volume:55 | Number:7-8

Harvested from:

CDK

Metadata only:

false