Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici za nízkých teplot

Title:

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici za nízkých teplot
Change of dielectrics spectrum of polymers during long exposition and low temperatures

Creator:

Holcman, Vladimír, Straník, Rostislav, and Liedermann, Karel

Identifier:

https://cdk.lib.cas.cz/client/handle/uuid:b086eccf-e2ed-44b4-9bfd-76c5ec053be1
uuid:b086eccf-e2ed-44b4-9bfd-76c5ec053be1

Subject:

dielectric spectroscopy, glass materials, relaxation peak, dielektricka spektroskopie, sklotvorné materialy, and relaxační maximum

Type:

model:article and TEXT

Format:

bez média and svazek

Description:

The paper deals with the influence of longtime exposition of typical glass - forming material at low temperatures (100 - 300 K) over its dielectric spectrum in frequency range 100 Hz - 1 MHz. Changes of the process of high-frequency part of watched relaxation maximum depending on the time of exposition are studied in the main. The transition from linear process σe ¢¢= f (εw), watched at short time of exposition, to incurvate process, watched at protraction of exposition, is explicated as a denotation of another relaxation process, which is covered with the original relaxation maximum at short time of exposition and which crops out step by step from the background. The occurrence of this second relaxation process is watched according to two arguments - temperature of the sample and time of the exposition. The microscopic mechanism is discussed, which leads to its rise. and Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu εe ¢¢= f(εw), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu při krátkých expozicích překrytého původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy vedoucí k jeho vzniku.

Language:

Czech

Rights:

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/
policy:public

Coverage:

279-281

Source:

Jemná mechanika a optika: věda - výzkum - technologie - realizace : technický oborový časopis = Fine mechanics and optics | 2010 Volume:55 | Number:10

Harvested from:

CDK

Metadata only:

false